Optimization of titanium silicide formation on boron doped silicon using statistical design
The effects of first heat treatment temperature, second heat treatment temperature and second heat treatment time on titanium films by measuring the sheet resistance was investigated using statistical design of experiment. Two-level screening experiment with 23 factorial design was used to evaluate...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Uda Hashim,, Abu Hassan Shaari,, Burhanudin Yeop Majlis,, Sahbudin Shaari, |
---|---|
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
Universiti Kebangsaan Malaysia
2000
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://journalarticle.ukm.my/3790/ http://www.ukm.my/jsm/english_journals/vol29_2000/vol29_00page163-170.html |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Cobalt silicide and titanium silicide effects on nano devices
بواسطة: Elgomati, H.A., وآخرون
منشور في: (2017) -
Cobalt silicide and titanium silicide effects on nano devices
بواسطة: Elgomati H.A., وآخرون
منشور في: (2023) -
Influence of junction formation process variables on diffusion sheet resistance using statistical design of experiment methodology
بواسطة: Hashim, Uda, وآخرون
منشور في: (2017) -
Pencirian proses penyediaan titanium silisida untuk kegunaan saling hubung
litar bersepadu CMOS
بواسطة: Uda Hashim,, وآخرون
منشور في: (2000) -
Electrophoretic deposition of magnesium silicates on titanium implants: Ion migration and silicide interfaces
بواسطة: Afshar-Mohajer, M., وآخرون
منشور في: (2014)