Process Development and Optimization of Carbon-Based Thin Film Deposition through Ablation of Graphite
This paper reports the deposition of carbon nanomaterials on silicon substrate using a dense plasma focus device. The film property is studied using a field emission scanning electron microscopy (FESEM) and energy dispersive X-ray (EDX). The first test was deposited using 1, 3, 5, and 7 focus shots...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | مقال |
| منشور في: |
Trans Tech Publications
2016
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.intimal.edu.my/755/ https://www.scientific.net/KEM.701.42 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|