Alignment mark architecture effect on alignment signal behavior in advanced lithography

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書誌詳細
主要な著者: Normah, Ahmad, Uda, Hashim, Mohd Jeffrey, Manaf, Kader Ibrahim, Abdul Wahab
フォーマット: 論文
言語:English
出版事項: Institute of Electrical and Electronics Engineering (IEEE) 2009
主題:
オンライン・アクセス:http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/6676
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