The direction decoupled Quiet Direct Simulation method for rapid simulation of axisymmetric inviscid unsteady flow in pulsed pressure chemical vapour deposition
Pulsed Pressure-Chemical Vapour Deposition (PP-CVD) is a thin film deposition process which employs a highly unsteady flow with wide dynamic range of pressure. The large, time-varying density gradient during a PP-CVD process cycle produces a flow field in which the Knudsen number varies from the nea...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | مقال |
| منشور في: |
2023
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|