صورة الغلاف

The effect of pulse DC and DC substrate bias during in situ cleaning PVD process on surface roughness

Malaysian Technical Universities Conference on Engineering and Technology (MUCET) 2012 organised by technical universities under the Malaysian Technical Universities Network (MTUN), 20th - 21st November 2012 at Hotel Seri Malaysia, Kangar, Perlis, Malaysia.

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Hanizam, Hashim, Mohd Saufhwee, Abd Rahman, Anuar, A.R, K., Md. Nizam, Abd. Rahman, Dr., Noraiham, Mohamad, Dr.
مؤلفون آخرون: hanizam@utem.edu.my
التنسيق: Working Paper
اللغة:English
منشور في: Malaysian Technical Universities Network (MTUN) 2013
الموضوعات:
Physical vapor deposition
Surface roughness
Substrate bias
Pulse direct current
Tungsten carbide
الوصول للمادة أونلاين:http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/27355
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

الانترنت

http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/27355

مواد مشابهة