Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah

Dalam kajian ini, filem nipis karbon nitrida amorfus (a-CNx) telah dimendapkan menggunakan teknik pemendapan wap kimia secara peningkatan berfrekuensi radio, (radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition, rf-PECVD). Sampel disediakan pada suhu substrat yang berbeza iaitu pada 80, 100,...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Siti Aisyah Abd Aziz,, Rozidawati Awang,
Format: Article
Language:English
Published: Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia 2020
Online Access:http://journalarticle.ukm.my/15484/1/24.pdf
http://journalarticle.ukm.my/15484/
http://www.ukm.my/jsm/malay_journals/jilid49bil6_2020/KandunganJilid49Bil6_2020.html
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id my-ukm.journal.15484
record_format eprints
spelling my-ukm.journal.154842020-10-30T05:33:53Z http://journalarticle.ukm.my/15484/ Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah Siti Aisyah Abd Aziz, Rozidawati Awang, Dalam kajian ini, filem nipis karbon nitrida amorfus (a-CNx) telah dimendapkan menggunakan teknik pemendapan wap kimia secara peningkatan berfrekuensi radio, (radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition, rf-PECVD). Sampel disediakan pada suhu substrat yang berbeza iaitu pada 80, 100, 120, 150 dan 180 ℃ dan kesannya ke atas morfologi, kadar pemendapan serta komposisi ikatan kimia sampel dikaji. Seterusnya, mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx daripada campuran gas asetilena (C2H2) dan nitrogen (N2) dicadangkan. Ketebalan filem nipis dan morfologi filem nipis a-CNx diciri menggunakan mikroskop elektron imbasan pancaran medan (field emission scanning electron microscopy, FESEM). Manakala komposisi ikatan kimia diperoleh daripada pencirian menggunakan spektroskopi infra-merah jelmaan Fourier (Fourier transform infrared spectroscopy FTIR). Morfologi filem nipis a-CNx kelihatan seperti kobis bunga yang padat dan butiran yang seragam. Manakala sampel yang dimendapkan pada suhu 100 dan 180 ℃ menunjukkan struktur butiran bersaiz nano pada keseluruhan permukaan filem. Kadar pemendapan filem nipis a-CNx maksimum pada suhu pemendapan 120 ℃ dan minimum pada 180 ℃. Secara keseluruhannya, semua sampel menunjukkan kehadiran ikatan C-N, C=C, C=N, C≡N, C-H dan N-H/O-H iaitu ikatan yang berpadanan wujud dalam filem nipis a-CNx. Dalam kajian ini, mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx membincangkan pembentukan C-H, C-N dan keluaran sampingan HCN hasil daripada penguraian gas C2H2 dan N2. Pertumbuhan filem a-CNx juga disebabkan tindak balas kinetik semasa proses pemendapan iaitu penjerapan spesies karbon dan nitrogen pada permukaan pertumbuhan filem dan nyahjerapan spesies nitrida tepu, kesan daripada spesies bertenaga serta mobiliti spesies yang tinggi pada permukaan pertumbuhan. Maka, komposisi ikatan kimia dan kadar pemendapan filem dipengaruhi oleh keseimbangan antara molekul CN dengan atom C dan N mencapai permukaan pertumbuhan filem. Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia 2020-06 Article PeerReviewed application/pdf en http://journalarticle.ukm.my/15484/1/24.pdf Siti Aisyah Abd Aziz, and Rozidawati Awang, (2020) Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah. Sains Malaysiana, 49 (6). pp. 1461-1470. ISSN 0126-6039 http://www.ukm.my/jsm/malay_journals/jilid49bil6_2020/KandunganJilid49Bil6_2020.html
institution Universiti Kebangsaan Malaysia
building Tun Sri Lanang Library
collection Institutional Repository
continent Asia
country Malaysia
content_provider Universiti Kebangsaan Malaysia
content_source UKM Journal Article Repository
url_provider http://journalarticle.ukm.my/
language English
description Dalam kajian ini, filem nipis karbon nitrida amorfus (a-CNx) telah dimendapkan menggunakan teknik pemendapan wap kimia secara peningkatan berfrekuensi radio, (radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition, rf-PECVD). Sampel disediakan pada suhu substrat yang berbeza iaitu pada 80, 100, 120, 150 dan 180 ℃ dan kesannya ke atas morfologi, kadar pemendapan serta komposisi ikatan kimia sampel dikaji. Seterusnya, mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx daripada campuran gas asetilena (C2H2) dan nitrogen (N2) dicadangkan. Ketebalan filem nipis dan morfologi filem nipis a-CNx diciri menggunakan mikroskop elektron imbasan pancaran medan (field emission scanning electron microscopy, FESEM). Manakala komposisi ikatan kimia diperoleh daripada pencirian menggunakan spektroskopi infra-merah jelmaan Fourier (Fourier transform infrared spectroscopy FTIR). Morfologi filem nipis a-CNx kelihatan seperti kobis bunga yang padat dan butiran yang seragam. Manakala sampel yang dimendapkan pada suhu 100 dan 180 ℃ menunjukkan struktur butiran bersaiz nano pada keseluruhan permukaan filem. Kadar pemendapan filem nipis a-CNx maksimum pada suhu pemendapan 120 ℃ dan minimum pada 180 ℃. Secara keseluruhannya, semua sampel menunjukkan kehadiran ikatan C-N, C=C, C=N, C≡N, C-H dan N-H/O-H iaitu ikatan yang berpadanan wujud dalam filem nipis a-CNx. Dalam kajian ini, mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx membincangkan pembentukan C-H, C-N dan keluaran sampingan HCN hasil daripada penguraian gas C2H2 dan N2. Pertumbuhan filem a-CNx juga disebabkan tindak balas kinetik semasa proses pemendapan iaitu penjerapan spesies karbon dan nitrogen pada permukaan pertumbuhan filem dan nyahjerapan spesies nitrida tepu, kesan daripada spesies bertenaga serta mobiliti spesies yang tinggi pada permukaan pertumbuhan. Maka, komposisi ikatan kimia dan kadar pemendapan filem dipengaruhi oleh keseimbangan antara molekul CN dengan atom C dan N mencapai permukaan pertumbuhan filem.
format Article
author Siti Aisyah Abd Aziz,
Rozidawati Awang,
spellingShingle Siti Aisyah Abd Aziz,
Rozidawati Awang,
Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
author_facet Siti Aisyah Abd Aziz,
Rozidawati Awang,
author_sort Siti Aisyah Abd Aziz,
title Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
title_short Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
title_full Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
title_fullStr Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
title_full_unstemmed Komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-CNx oleh teknik rf-PECVD suhu rendah
title_sort komposisi ikatan kimia dan mekanisme pertumbuhan filem nipis a-cnx oleh teknik rf-pecvd suhu rendah
publisher Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia
publishDate 2020
url http://journalarticle.ukm.my/15484/1/24.pdf
http://journalarticle.ukm.my/15484/
http://www.ukm.my/jsm/malay_journals/jilid49bil6_2020/KandunganJilid49Bil6_2020.html
_version_ 1683231750882328576
score 13.211869