Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
Titanium oksida (TiO2) merupakan semikonduktor yang mempunyai jurang jalur yang besar dengan ciri-ciri foto penukaran dalam spektra UV sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam penyelidikan ini, kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) digunakan bagi menghasilkan lapisan filem TiO...
Saved in:
Main Authors: | Mohd Fairuz Soh-Yusoff,, Mohamad Firdaus Mohamad Noh,, Chin, Hoong Teh, Norasikin Ahmad Ludin,, Mohd Adib Ibrahim,, Mohd Asri Mat Teridi,, Abd. Rashid Mohd Yusof, |
---|---|
Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia
2019
|
Online Access: | http://journalarticle.ukm.my/14302/1/10.pdf http://journalarticle.ukm.my/14302/ http://www.ukm.my/jkukm/volume-311-2019/ |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Similar Items
-
Properties of zinc tin oxide thin film by aerosol assisted chemical vapor deposition (AACVD)
by: Muhammad Arif Riza, et al.
Published: (2018) -
Sintesis nanotiub karbon daripada minyak masak terpakai menggunakan kaedah pemendapan wap kimia terma
by: Alias Nurfalina,
Published: (2015) -
Aerosol assisted chemical vapour deposited (AACVD) of TiO2 thin film as compact layer for dye-sensitised solar cell
by: Lim, Su Pei, et al.
Published: (2014) -
Manganese oxide thin film using aerosol assisted chemical vapour deposition (AACVD) technique for solar energy harvesting / Khadijah Hamzah
by: Hamzah, Khadijah
Published: (2020) -
Dana disediakan
by: Utusan Sarawak, .
Published: (2013)