Fabrication and characterisation of resistive nanocrystalline graphite
This work demonstrates the feasibility of fabricating resistive nanocrystalline graphite (NCG) on a Si substrate. The NCG film thickness of 9 nm was deposited using metal-free plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) on a 6-inch p-type silicon wafer. The surface and electrical properties o...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | Conference or Workshop Item |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2021
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utm.my/id/eprint/95958/1/SMSultan2021_FabricationandCharacterisation.pdf http://eprints.utm.my/id/eprint/95958/ http://dx.doi.org/10.1109/RSM52397.2021.9511601 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!