Design and fabrication of quantum dot single electron transistor structure using e-beam nanolithography
Link to publisher's homepage at http://ijneam.unimap.edu.my/
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Uda, Hashim, Sutikno, Madnasri, Zul Azhar, Zahid Jamal |
---|---|
مؤلفون آخرون: | uda@unimap.edu.my. |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
Universiti Malaysia Perlis
2016
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my:80/xmlui/handle/123456789/41218 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Designing of masks for quantum dot single electron transistor fabrication using E-beam nanolithography
بواسطة: Uda, Hashim, وآخرون
منشور في: (2009) -
Nano patterning of cone dots and nano constrictions of negative e-beam resist for single electron transistor fabrication
بواسطة: Sutikno, Madnasri, وآخرون
منشور في: (2009) -
Reproducibility of silicon single electron quantum dot transistor
بواسطة: Uda, Hashim, وآخرون
منشور في: (2009) -
Fabrication and characterization of Si quantum dots and SiO2 tunnel barriers grown by a controlled oxidation process
بواسطة: Sutikno, Madnasri, وآخرون
منشور في: (2009) -
SOI Single-Electron Transistors (SET) design and process development
بواسطة: Amiza, Rasmi, وآخرون
منشور في: (2009)