Investigation and Modeling of Boron Diffusion Reduction in Silicon by Flourine Implantation using Numerical Simulation
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保存先:
| 第一著者: | |
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| その他の著者: | |
| フォーマット: | Learning Object |
| 言語: | English |
| 出版事項: |
Universiti Malaysia Perlis
2008
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| 主題: | |
| オンライン･アクセス: | http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/1348 |
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