Nanowire formation for single electron transistor using SEM based Electron Beam Lithography (EBL) technique: Positive tone vs negative tone e-beam resist
Link to publisher's homepage at http://www.nsti.org/Nanotech2006/
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
---|---|
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nano Science and Technology Institute
2009
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/6977 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|